集团股份有限公司取得一项名为“一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法“，授权公告号CN115010367B，申请日期为2022年5月。

　　专利摘要显示，本发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法，属于陶瓷建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成包括：以质量百分比计，结晶抛釉90‑99%，引晶干粒0.5‑5.0%，熔块0.5‑5.0%；所述引晶干粒的化学组成包括：以质量百分比计，Na。